Produkcyjne czyszczenie chemiczne

Oferujemy efektywną i powtarzalną realizację procesów czyszczenia dużych partii podłoży krzemowych oraz przygotowanie ich do dalszych kroków technologicznych. Procesy wykonywane są na podłożach o średnicach 100 mm/4”, 125 mm/5”, 150 mm/6” oraz 200 mm/8” w trybie wsadowym (do 25 podłoży). Procesy te obejmują:

• czyszczenie SPM w temperaturze do 120°C,
• czyszczenie SC1 w temperaturze do 80°C,
• czyszczenie SC2 w temperaturze do 80°C,
• usuwanie natywnego SiO2 w rozcieńczonym roztworze HF.

Czyszczenie realizowane jest w systemie Dry-In/Dry-Out.

Słowa kluczowe: czyszczenie chemiczne, czyszczenie produkcyjne, czyszczenie podłoży, SPM, SC1, SC2, Dry-In, Dry-Out, czyszczenie powtarzalne

kontakt: uslugi.cezamat@pw.edu.pl