Trawienie suche

Oferujemy trawienie w plazmie ICP/RIE (Inductively Coupled Plasma/Reactive Ion Etching). Proces ten pozwala na trawienie szerokiej gamy dielektryków, metali i półprzewodników na podłożach zarówno o standardowych, jak i nietypowych wymiarach do średnicy 200 mm. Zależnie od procesu możliwe jest uzyskiwanie wysokich selektywności, silnie anizotropowych profili trawienia, także pionowego profilu ścian.

Oferujemy trawienia w plazmach tlenowych, chlorowych, fluorowych, argonowych, azotowych. Wykonujemy również trawienia kriogeniczne w temperaturach do -150°C, w tym trawienia w krzemie struktur o wysokim współczynniku kształtu (High Aspect Ratio).

Procesy trawienia mogą być kontrolowane in situ z wykorzystaniem laserowego systemu interferometrycznego.

Słowa kluczowe: trawienie suche, ICP, RIE, trawienie w plazmie, trawienia kriogeniczne, trawienia w krzemie, powtarzalne trawienie

kontakt: uslugi.cezamat@pw.edu.pl